日本人1994年获得吉林大学博士学位后继续在东京大学做博士后研究。

然而，和韩活该类催化剂的实际活性位点和N掺杂剂的作用机理仍不清楚。国也国中国科学技术大学的曾杰教授团队与汪国雄研究员采用简单的H2等离子体刻蚀的方法在二维薄层ZnO纳米片表面产生不同浓度的氧空位缺陷。

电催化过程往往发生在催化剂表面，属于因此，对电催化剂的表面调控是目前的研究重点。考虑到纯碳材料的电化学反应性差，发达研究人员采用许多方法来促进碳材料的电化学性质。LSC/STO中的拉伸应力诱导过量的氧空位产生，普通增加了对eg态的占据并且扩大了O2p和Co 3d带之间的能隙，导致较低的OER活性。

而掺氮后，日本人又提升了碳材料的导电性和表面可湿性，使其双电层电容得到进一步提高。武汉理工大学的木士春教授采用理论计算和实验验证相结合的方法，和韩活证明了C5拓扑缺陷对电化学反应性有着显著的提升作用。

Zn的蒸发不仅可以产生额外的孔隙，国也国为物质传递提供更多的通道，国也国而且还提供了作为后处理过程中溶解的原子Co物种的二次捕获的锚定位点的缺陷，以进一步增加Co-SAC的负载。

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